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Tournament Poloshirt Damen Regenschirme T Face Technologie: KI-entwickeltes Muster

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Description

T Face Technologie: KI-entwickeltes Muster mit variabler Dicke für effizientere Geschwindigkeit und Spin über die gesamte Schlagfläche

Gefertigt aus 89% recyceltem Polyester und 11% Elasthan für Dehnbarkeit und Nachhaltigkeit

die eine Kombination aus fortschrittlicher Technologie und klassischem Golf-Stil suchen

Mit diesem hochleistungsfähigen Golfkleid für Damen meisterst du jede Golfrunde mit Bravour und Eleganz

Das 4-Wege-Stretch-Gewebe ermöglicht maximale Flexibilität und uneingeschränkte Bewegungsfreiheit bei jeder Aktivität

Tournament Poloshirt Damen Regenschirme T Face Technologie: KI-entwickeltes MusterFeuchtigkeitsableitendes Material fr anhaltenden Tragekomfort Integrierter UV Schutzfaktor 50+ schtzt vor schdlichen Sonnenstrahlen Split Saum Design fr optimierte Bewegungsfreiheit bei jedem Schwung Dieses Adidas Tournament Poloshirt wurde speziell fr Golferinnen entwickelt, die auch bei warmen Temperaturen Hchstleistungen erbringen mchten. Das atmungsaktive 100% Polyester Pique Gewebe leitet Feuchtigkeit effektiv von der Haut ab und sorgt so fr ein

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